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1、无机综合应用示例1【例题】2006年天津卷28晶体硅是一种重要的非金属材料，制备纯硅的主要步骤如下：高温下用碳还原二氧化硅制得粗硅粗硅与干燥HCl气体反应制得SiHCl3：Si3HClSiHCl3H2SiHCl3与过量H2在10001100反应制得纯硅已知SiHCl3，能与H2O强烈反应，在空气中易自燃。请回答下列问题：（1）第步制备粗硅的化学反应方程式为 。（2）粗硅与HCl反应完全后，经冷凝得到的SiHCl3（沸点33.0）中含有少量SiCl4（沸点57.6）和HCl（沸点84.7），提纯SiHCl3采用的方法为 。（3）用SiHCl3与过量H2反应制备纯硅的装置如下（热源及夹持装置略去）
2、：A B C D装置B中的试剂是 。装置C中的烧瓶需要加热，其目的是 _。反应一段时间后，装置D中观察到的现象是 ，装置D不能采用普通玻璃管的原因是 ，装置D中发生反应的化学方程式为 。为保证制备纯硅实验的成功，操作的关键是检查实验装置的气密性，控制好反应温度以及 。为鉴定产品硅中是否含微量铁单质，将试样用稀盐酸溶解，取上层清液后需再加入的试剂（填写字母代号）是 。a碘水 b氯水 cNaOH溶液 dKSCN溶液 eNa2SO3溶液【分析】本题主要考查了：反应原理（方程式的书写）、物质的分离提纯、反应条件的控制、物质（Fe）的检验。要求考生具有从信息中提取实质性的内容与已有知识进行整合重组的能力
3、。第（1）小题，高温下C参与的还原反应的产物是CO而非CO2，所以粗硅的制备原理是：SiO22CSi2CO第（2）小题，对沸点不同的液态混合物分离提纯的方法一般选择分馏（或蒸馏）第（3）小题，从装置的图和题目信息可知A装置是制备氢气，但因含有H2O(g)不能直接还原SiHCl3，所以必须进行洗气干燥，所以装置B中的试剂应该是浓硫酸；而SiHCl3与H2的反应制得纯硅SiHCl3H2Si3HCl，其温度高达10001100，只能在装置D石英管中进行，因为在此反应温度下，普通玻璃会软化。显然，装置C是使液态的SiHCl3气化，并与H2充分混合。由于硅在高温下易与空气中的氧气反应，所以，实验要取得成功，操作的关键是检查实验装置的气密性，控制好反应温度以及排尽装置中的空气。第（4）小题，微量铁单质，将试样用稀盐酸溶解后溶液中的Fe主要以Fe2+离子的形式存在，检验的方法一般是将其氧化成Fe3+用KSCN试液检验。该装置产生的尾气主要成分是什么？处理时应注意什么？（HCl、H2；应注意降温、防倒吸以及循环利用）答案：（1）SiO22CSi2CO（2）分馏（或蒸馏） （3）浓硫酸 使滴入烧瓶中的 SiHCI3 气化 有固体物质生成 在反应温度下，普通玻璃会软化 SiHCl3H2Si3HCl排尽装置中的空气bd