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1、软化学合成方法3,软化学合成方法2(化学气相沉积法),软化学合成方法2(化学气相沉积法),化学气相沉积,化学气相沉积(CVD)是把含有构成薄膜元素的化合物或单质气体通入反应室内，利用气相物质在工件表面的化学反应形成固态薄膜的工艺法。 它是一种适应性强、用途广泛的技术。可以制备几乎所有固体材料的涂层、粉末、纤维和成形元器件。,软化学合成方法2(化学气相沉积法),按激发方式分，有热CVD、等离了体CVD、光激发CVD、激光(诱导)CVD等； 按反应室压力分，有常压CVD、低压CVD等； 按反应温度分，有高温CVD、中温CVD、低温CVD等； 按源物质类型分，有金属有机化合物CVD、氯化物CVD、氢
2、化物CVD等； 按主要特征分，有热激发CVD、低压CVD、等离子体CVD、激光(诱导)CVD、金属有机化合物CVD等。 也有将常压CVD称为“常规CVD”，而把低压CVD、等离子体CVD、激光CVD等归入“非常规CVD”的分类方法，,软化学合成方法2(化学气相沉积法),化学气相沉积的过程,化学气相沉积包括： 反应气体到达基材表面， 反应气体分子被基材表面吸附， 在基材表面发生化学反应、形核， 生成物从基材表面脱离，生成物在基材表面扩散等过程。,软化学合成方法2(化学气相沉积法),化学气相沉积的基本条件,反应物的蒸气压：在沉积温度下，反应物必须有足够高的蒸汽压。 反应生成物的状态：除了需要得到的
3、固态沉积物外，化学反应的生成物都必须是气态。 沉积物的蒸汽压：沉积物本身的饱和蒸气压应足够低，以保证它在整个反应、沉积过程中都一直保持在加热的基体上。,软化学合成方法2(化学气相沉积法),化学反应的类型,软化学合成方法2(化学气相沉积法),软化学合成方法2(化学气相沉积法),软化学合成方法2(化学气相沉积法),化学气相沉积的源物质可以足气态、液态和固态。 制备装置一般由反应室、气体输送和控制系统、蒸发器、排气处理系统等构成。 采用合适的方式加热基材，使其保持一定的温度，并且要高于环境气体温度。,软化学合成方法2(化学气相沉积法),软化学合成方法2(化学气相沉积法),软化学合成方法2(化学气相沉
4、积法),软化学合成方法2(化学气相沉积法),软化学合成方法2(化学气相沉积法),影响化学气相沉积制备材料质量的因素,反应混合物的供应 淀积温度 衬底材料 系统内总压和气体总流速 反应系统装置因素 原材料的纯度,软化学合成方法2(化学气相沉积法),软化学合成方法2(化学气相沉积法),软化学合成方法2(化学气相沉积法),软化学合成方法2(化学气相沉积法),软化学合成方法2(化学气相沉积法),软化学合成方法2(化学气相沉积法),软化学合成方法2(化学气相沉积法),软化学合成方法2(化学气相沉积法),软化学合成方法2(化学气相沉积法),软化学合成方法2(化学气相沉积法),软化学合成方法2(化学气相沉积
5、法),化学气相沉积的特点,软化学合成方法2(化学气相沉积法),软化学合成方法2(化学气相沉积法),软化学合成方法2(化学气相沉积法),化学气相沉积前驱体,软化学合成方法2(化学气相沉积法),软化学合成方法2(化学气相沉积法),软化学合成方法2(化学气相沉积法),软化学合成方法2(化学气相沉积法),软化学合成方法2(化学气相沉积法),软化学合成方法2(化学气相沉积法),软化学合成方法2(化学气相沉积法),软化学合成方法2(化学气相沉积法),软化学合成方法2(化学气相沉积法),软化学合成方法2(化学气相沉积法),软化学合成方法2(化学气相沉积法),软化学合成方法2(化学气相沉积法),软化学合成方法
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