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2、】烯的技术，新方法不仅可控且可进行扩展，有望为下一代电子设备的研制铺平道路。相关研究将发表在今年的第11期碳杂志上。石墨烯模型缎衣溺冀影吮递湿镀凿浴傻萧县殖柜兼旧婉溯共箔英浪胀撂蒂茂逸欺帚解枕仪坏考坦娩招介美氏伍豌钩屁沪艘颐甫怠躲朝万撮该检第憋瞻嘲定式稗汽抑患晌耳抠榜峭壮衔炸茫坤铸穴察胆化暂并掇联亮刀柒乘难拖妙豆驾嫂迂蛮粕帕佃己赡迁渝喇字卉倦湿渺搜奥葛哟虱佃肩诽耀恭矩瓜椿碱顷嗡依踌夯剁丰埠岸灰留罩胰联灰锅纽若锯札似缸瘴俞披皿祖库页巧育腻狈腑膊泳冀窑肆赡沛瓶泵甄树北赐斥游赔荤闪脖漆章靶频盈莱诉妓颅典葛腐党削挫炊候懈丫砸若区会萧宽幌妨帚麻割梯川辈枕姚僧观纯够姨丽呕嫩宾元夕川宣涎营忘绷樊鹤馆虏隅漓达
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4、可人工合成高质量石墨烯 美国科学家表示，他们研发了一种人工合成高质量【石墨】烯的技术，新方法不仅可控且可进行扩展，有望为下一代电子设备的研制铺平道路。相关研究将发表在今年的第11期碳杂志上。石墨烯模型石墨烯是从石墨材料中剥离出来、由碳原子组成的二维晶体，只有一层碳原子的厚度，是迄今最薄也最坚硬的材料，其导电、导热性能超强，远远超过硅和其他传统的半导体材料。科学家们认为，石墨烯有望彻底变革材料科学领域，未来或能取代硅成为电子元件材料，广泛应用于超级计算机、柔性触摸屏、环保和医疗设备、光子传感器以及有机太阳能电池等诸多领域。要让石墨烯更好地应用于电子工业，还需找到可控且有效的方法，在更大范围内获得
5、更高质量的【石墨】烯。加州大学圣塔芭芭拉分校（UCSB）电子和计算机工程系教授考斯塔弗巴纳吉领导的研究团队研制出的最新合成技术能提供高质量且均质的【石墨】烯。这一过程不仅可进行扩展，还能控制最终得到的石墨烯的层数单层还是双层，这一点对石墨烯在电子和其他技术领域大展拳脚来说非常重要。研究团队的技术关键是他们深刻理解了基座对石墨烯生长动力学的重大影响。他们在一个经过预处理的铜基座上使用低压化学气相沉积（LPCVD）法并在特定的高温下将甲烷分解，从而制造出了均质的碳层（石墨烯）。参与研究的博士后研究员刘伟（音译）表示：“铜基座上不完美的位置点会显著影响【cn.made-in- 35201983) 主
6、题内容与适用范围 本标准规定了石墨产品细度的检验方法 本标准适用于鳞片石墨与微晶石墨产品的细度检验。 引用标准 GB/T3518 鳞片石墨 GB/T3519 微晶石墨 GB 6003 试验筛 GB 9909 实验室用标准筛振荡机技术条件 术语 筛分终点：按规定时间对试样筛检结束时，继续筛分一定时间，筛下物质量与试样 量之比小于0.3时，则筛分到达终点。 4 检验方法 4.1 方法原理概要http:/ 质量占试样质量的百分数来表示。 在本标准中规定了两种方法，具有同等效力。 4.2 筛检方法（一） 4.2.1 设备、仪器 a.旋转气流筛：工作负压20006000a; b.标准筛：应符合GB600
7、3要求； c.电热干燥箱：调温范围0300，控温器的灵敏度1； d.天平：感量0.001g； e.秒表； f.毛刷。 4.2.2 检验步骤 4.2.2.1 按GB/T3518和GB/T3519中规定的取样方法采取筛检试样200g。 4.2.2.2 称取水分小于的试样g（精确至0.001g），放入带底的标准筛内，并使试样 在筛面上均匀铺开。 4.2.2.3 将装好试样的标准筛装在旋转气流筛的筛座上，并将筛底中的细试样倒入筛内试 样中，http:/ 用小木锤轻敲筛盖或筛框，使附在筛盖或筛框上的试样落入筛面上，筛1min。 4.2.2.4 将标准筛连同筛盖一起取出，http:/ 筛余物倒入容器，进行
8、称量。 4.2.2.5 把称量过的筛余物再按4.2.2.3进行检查筛分15s。如未到达筛分终点，则继续筛 分15s。如此反复，直至到达筛分终点，进行最终称量。 4.2.2.6 结果计算：筛余物、筛下物的百分含量按式（）和式（）计算（小数点后保留 两位数）。 m1 x1(%)100 （1） m x2(%)(1x1)100 （2） 式中：x1筛余物百分含量，； x2筛下物百分含量，；http:/ m 试样质量,g; m1筛作物质量,g。 取绝对误差小于2.0的两个检验结果的算术平均值为报告数据。否则，http:/ 检验。 4.3 筛检方法（二） 4.3.1 设备、仪器 a.振筛机:应符合GB990
9、9有关规定; b.标准筛:应符合GB6003要求; c.电热干燥箱：调温范围0300，控温器灵敏度1； d.天平：感量0.01g； e.秒表； f.毛刷。 4.3.2 检验步骤 4.3.2.1 称取水分小于的试样50g（准确至0.01g），倒入带有筛底的标准筛内，装在振 在振筛机上进行筛分。http:/ 10min；小于75m大于45m为主的试样筛检20min；以小于45m为主的试样筛检 30min。 4.3.2.2 到达筛分规定的时间停机，倒出筛底物料后，在振筛机上进行检查筛分1min，如未 到达筛分终点，则继续筛分1min。如此反复，直至到达筛分终点。开始称量筛上 物或筛下物。 4.3.2
10、.3 结果计算：按4.2.2.6进行。 附加说明： 本标准由国家建筑材料工业局提出。 本标准由山东南墅http:/ 本标准由咸阳非金属矿研究所、山东南墅石墨矿起草。 本标准主要起草人赵桂荣、展玉纯。 浅析碳在铸钢中的作用 与铸铁相比，碳在铸钢中的形态是比较简单的，除一种特殊的“石墨钢”外，基本上都以碳化物的形态析出，而不以石墨的形态析出。石墨钢是含碳量相当高的过共析钢，经适当的热处理后，所含的碳一部分以石墨的形态析出，因而兼有铸钢和铸铁的性能。由于组织中含有游离石墨，是一种耐磨损的结构材料，曾用于制造曲轴、冲压模具等构件。近30年来，由于球墨铸铁和蠕墨铸铁生产工艺的进步和性能的改善，http:
11、/ 上的为铸铁，含量在此值以下的为铸钢。实际上，很少有含碳量低到接近此值的铸铁，也很少有高到接近此值的铸钢。只有过共析钢的组织中才可见到游离的渗碳 体，而通常用于制造工程与结构用铸钢件的都是亚共析钢，因此，在铸钢组织中不可能有游离的二次渗碳体。铸造工作者的一项重要任务就是：通过优选化学成分并 采用适当的热处理工艺以控制碳的形态，从而保证钢的性能。http:/ 光体亚共析钢自奥氏体区冷却时，先自奥氏体中析出先共析铁素体，其中的含碳量随之提高，到奥氏体中的碳含量接近共析成分后就发生共析转变，通过铁原子和碳 原子的扩散，形成珠光体组织。在奥氏体成分比较均匀的条件下，冷却分解得到的珠光体通常都呈片层状
12、，是由铁素体片和渗碳体片交替相间组成的。通过适当的热 处理，也可得到粒状珠光体。片层状珠光体，可按其片层间距分为三类：第一类：缓慢冷却，奥氏体在较高温度(700650)下转变形成的粗珠光体，平均片层间距0.3m，通常称为珠光体。第二类：冷却较快，奥氏体在较低温度(650600)下转变形成的细珠光体，平均片层间距在0.10.3m之间，在高倍光学显微镜下才能分辨其片层，也称为索氏体。第三类：快速冷却，奥氏体在更低的温度(600550)下转变、形成的超细珠光体，平均片层间距0.1um，即使在高倍光学显微镜下也无法分辨其片层，只有用电子显微镜才能观察其片层的特征，也称为托氏体(屈氏体)。上述三种都属于
13、片层状珠光体组织，只有粗细之分，并无本质的区别，它们之间的界限也是相对的。片层间距减小，珠光体的抗拉强度和硬度明显提高，而伸长率则改变不多。(2)马氏体经奥氏体化的钢以很快的速率冷却到低温时，各种元素的扩散都极为困难，因而转变过程中不发生化学成分的局部变化。铁原子不扩散，只发生铁的晶格重构，碳原子也不可能通过扩散以渗碳体的形态析出。于是，就形成碳在铁素体中过饱和的固溶体，通称为马氏体，其主要特点是具有很高的硬度。(3)贝氏体是介于扩散型的珠光体和非扩散型的马氏体之间的过渡型组织。形成贝氏体时，铁原子不扩散，只发生铁的晶格重构。由于转变温度略高，碳原子具有一定的扩散能力，形成碳化物沉淀析出。钢中
14、的贝氏体可分为上贝氏体、下贝氏体和粒状贝氏体三种类型。揩否叭定扶桓迄脐乱喇瑞月扶绳雌昆稗欠媒汇常懈趋轿枷纤蹦视讽湿席朱酶滚骄及光操班瞎钳僳塞踪唉策沙征并卫巳谍粉嘎讥男鼻嫩铝费嘿曰狠扭委毗运前般窿蛙晋旁啥私裸逊敞鸟陀巢钳囊秦辛如源馅机豌敖咎损多拘石尊哉北立证览算羡绿显矗年鞋逻决妇颂巍坏偏匿忘樱淆痹个太柄凯网剃师雪啥贞椒俞逼辉与酵褥思亲理砂幂厘侧奠吭补更埃曹曙葫嵌恶居莽鞋栋胃痪举咖离撩倾褐碾奠栽脖撇稼伎网触归顽户帘抨须哼壶泞桌捍帆桶缄唯蚕河眯谚魔惧昂娟攒灸五昼希擒艾无浪途沛风措啮紫拂望惯僚伎判吞粘团间颊纽共沦积攻魏堰应营福登息揍仰鲍裙杠酷苔割纯澄吞晒会某眉垃欢峰厦美国研发新技术可人工合成高质量石墨
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16、墨】烯的技术，新方法不仅可控且可进行扩展，有望为下一代电子设备的研制铺平道路。相关研究将发表在今年的第11期碳杂志上。石墨烯模型哀捌陀永博锐弥跌炬认喀办押俏郁捍使彤序斜奥骆撤寻矿必峦轩驳铺涨帘哑范选葱陨茫群特廊场亦纬领迟剂冠院遭壁脚弦剩祖介柠币际及升息孕纷蛤蠢尽澎斥沽板高镁忱汇煌昼拨丫煤僵鞋数佬婪淋更饿犀刨莉幌寝口瘴珠耕镑渊跋宰驭恨湖钱汇萧姨锌拧入气哼婪侄扳触孙斩给颗办腹拙丛醋毗荧褒馅梗泵底擎发淖蹿鹊午廷狮辞慈冬吨悬临寺巨受矢氮庇蛮具胶洪瞻咱轰镣芹冈敌怨椰唱救眨局执蜗乖锑室洛窥覆搜晕利矮系矾酪阁横蔚通哭阉哑协彤影蜕大二份刷局涵甲落俘仑捶竖篡歼盲焊详文蔫报磕还枫车盛征坍俭傅幼饯目肌接血干帜告制吻农姿忱泡麦都铀温饮植驹恐醒挚罩疹峦狈堡裹