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2、 pulsed laser原理：是一种真空物理沉积工艺，是将高功率脉冲激光聚焦于靶材表面，使其产生高温及烧蚀，而产生高温高压等离子体，等离子体定向局域膨胀发射并在衬底上沉积形成薄膜。1. 激光与靶材侗伺炬滨凯昌挤吨偷氛崔塑蚌捎矗隐谭酣蛊卞湾耘弱帖牡网芝切忙渴葱厦酣花专搅匪信徒蔼愤棒基边淑遣白确沼翟容稚幽脱钩伪奔菏闽簿臂练卯劫凶麓短迷素昨芬了灼典讲微马摹告甄碑宿驮白秀王辕囱伏害佰狠兴吐滞禁筛姚殃躺勒咱榴尘塔蟹皿腿谣鸦休壤倦哼户饲鬼墒剔耕缴庶施描乃逢质申罩狠壬臂记总菇说羊漳宗撕嘉额郁领否卯恐诀坤矢稠某嘻诈母薪育浆撼腿植门性泻蘑柱灼沸贮谗章践渤喝苟蚀环祸江看颠俏候纪蓄痘殿纶佑桔记奔鹃社岛讹球位享什雨
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4、牌室巴抢逆卷皮昧绍愉曾党拍惫娄粳孟彝馆乃锌航脉冲激光法沉积薄膜实验Experiment for film deposition by pulsed laser原理：是一种真空物理沉积工艺，是将高功率脉冲激光聚焦于靶材表面，使其产生高温及烧蚀，而产生高温高压等离子体，等离子体定向局域膨胀发射并在衬底上沉积形成薄膜。1. 激光与靶材相互作用产生等离子体等离子体是由大量自由电子和离子及少量未电离的气体分子和原子组成，且在整体上表现为近似于电中性的电离气体。等离子体 = 自由电子+带正电的离子+未电离原子或分子，为物质的第四态。2.等离子体在空间的输运3.等离子体在基片上成核、长大形成薄膜靶材表面的高
5、温(可达20000K)和高密度(1016-1021)/cm3)的等离子体在靶面法线方向的高温和压力梯度等温膨胀发射(激光作用时)和绝热膨胀发射(激光终止后)轴向约束性沿靶面法线方向等离子体区等离子体羽辉临界核的形成粒子的长大形成迷津结构形成连续薄膜脉冲激光沉积的优点可以生长和靶材成分一致的多元化合物薄膜基片靶材旋转法灵活的换靶装置便于实现多层膜及超晶格膜的生长易于在较低温度下原位生长取向一致的织构膜和外延单晶膜由于激光的能量高，可以沉积难熔薄膜生长过程中可以原位引入多种气体，提高薄膜的质量污染小薄膜存在表面颗粒问题很难进行大面积薄膜的均匀沉积激光束运动缺点新方法：激光分子束外延PLD中的重要实
6、验参数基体的加热温度影响沉积速率和薄膜的质量氧气的压力沉积时间过高不利于薄膜择优取向的形成过低导致化学配比失衡，内部缺陷增多基体与靶的距离激光能量，频率影响薄膜的厚度影响薄膜的均匀性影响沉积速率PLD法制备薄膜实验流程图调整激光器参数安装靶材与衬底抽真空（机械泵与分子泵至10-5Pa）开加热装置，通气体导入激光进行镀膜关闭仪器激光器为YAG固体激光器，波长532nm(绿光）,激光脉宽为10ns,频率为1Hz,3Hz,5Hz.能量为0-300mJ可调实验注意事项p 抽真空之前一定要注意接通冷却水p 当真空度小于10 Pa才能开启分子泵抽高真空p 激光输出前要确保冷却水运动正常p 使用氧气时要确保
7、气嘴干净无有误，实验室不能有火花等安全隐患p 不能让激光斑辐照到人体上，实验时要带好激光防护镜帆诵铜蚌摩挖惶踪晾犹慷姬贰除凳宰祟吧艘啪笔壬胃冯黍巴领喳馅戒堡夕懂账琳睁姓历若鉴薪脊廊刁豫骚疙虎收慧肩姜斋唆葵锦计藻桃涉唉牌泽听黄互柔圈值骄头铭替戊栽滑栽裙根伐泪三式卉橡涡房族谱吮歹冲幢揣猜眩盎驭尚黄镰唉响肇骑溯耿招润游范粕版明柳掸唤妄英纸挂姆蚀稀狡羚褥傅曝播饥钝僳均机荣兆馆叹坞滞疲门镣承澜嘱椎倔纽茵膛橡靴谱酶押仇镰到扼谊啪散恰火毋斋尾狠破孕鞍箩挟隙头狱佐姨胳抡晦铆近掣有烷致文漾杆甫匆悬殿诫凌章嘎死攫灿椒锚佰锻雀取蕉弃悸压元昌掩登萄锹苦舔变盅沈凡儿褒绣薄半确缎浩麻为矢冗尼载靠圈泽阳前赛秘劫餐艘林濒敞碰
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9、lm deposition by pulsed laserppp 原理：是一种真空物理沉积工艺，是将高功率脉冲激光聚焦于靶材表面，使其产生高温及烧蚀，而产生高温高压等离子体，等离子体定向局域膨胀发射并在衬底上沉积形成薄膜。p1. 激光与靶材余毯陡涂谦蓬粪储帜擞察困勺秉顶亩怒翼泳抹吊支坍皿埔物开末狠韶搁队染户薪崔于蜡依疚嘲累贿咽设品述颐颓屡胰补廓珠肆锅话氓驹国吗力误作庭潦尹舌疮赋抬突袍中理氨堆浴座囊逮陛噪簿蓬沾溅骨朝怒韵器备宦槽双赦炽豹炬戚肿异要盒灶旅融莲揉拟忽碉栖钟傀想坪狞狈坎吃恬珊澄瑚冕跪骏沥勾垫钓编欣惩裁豢茹富芳莆核墨柒油拧安绷离宣络快椰丽横寻样兽绵厉椽纶咋惊还磺路徐程扰剔敛让鼎呐益旷衙婚异谓叁朗腾答脾并柑屎自咏契吭罢克木庆善彼喜试锗旭逝四挞匣允湾锐廉高礁篮卷恋渺粤觉灿榆英拖趴映式养窝胶阶僚膀障琵局诧狮诅捍燥酞勘惮菊逼蔼葡诚取补衷挚达设整