液晶屏.doc

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1、显示的屏幕主要有以下几种: 1、STN液晶屏 是一种被动矩阵式LCD器件,它的好处是功耗小具有省电的最大优势。彩色STN的显示原理是在传统单色STN液晶显示器上加一彩色滤光片,通过彩色滤光片显示红、绿、蓝三原色,就可显示出彩色画面。STN屏幕显示响应时间较慢,约200毫秒,在播放动画时拖尾现象严重。 2、TFT液晶屏 它是有源矩阵类型液晶屏,背部设有特殊灯管,可以主动地对屏幕上的各个独立的像素进行控制,这也就是我们常说的主动矩阵TFT,反应时间比较快,约80毫秒,而且可视角度大,通常达到130度左右。但是缺点是比较耗电,制造成本也比较高。 3、OLED液晶屏 它是有机发光显示屏,与前面提到的传

2、统LCD显示方式有着本质的不同,即无需背光源,它采用非常薄的有机材料涂层和玻璃基板,当有电流通过时,这些有机材料就会发光。因此OLED液晶屏可以做得更轻更薄,可视角度更大,同时也更省电。不过使用寿命短、而且没法把屏幕做得更大等。 OLED,即有机发光二极管(Organic Light-Emitting Diode),又称为有机电激光显示(Organic Electroluminesence Display, OELD)。4、LTPS 液晶屏 低温多晶硅(Low Temperature Polysilicon, LTPS)它是由TFT LCD衍生的新一代的技术产品。LTPS屏幕是通过对传统非晶硅

3、(a-Si)TFT-LCD面板增加激光处理制程来制造的,元件数量可减少40%,而连接部分更可减少95%,极大的减少了产品出现故障的几率。这种屏幕在能耗及耐用性方面都有极大改善,水平和垂直可视角度都可达到170度,显示响应时间达12ms,显示亮度达到500尼特,对比度可达500:1。 市场上的MP4产品主要使用的是前三种屏幕。一般普通的产品使用的STN屏,从这种屏幕的特点,我们可以看到它的显示效果不是很好,色彩也不丰富。而TFT液晶屏虽然被广泛用于笔记本产品,但应用到MP4上由于成本和体积等原因却并没有优势。而OLED尽管色颜表现出色,但使用寿命短也限制了它的使用。目前应用在MP4显示的屏幕,最

4、为适合的莫过于LTPS屏了,可以说它是为MP4而诞生的一种显示技术。TFT-LCD简介http:/ 许多人不了解TFT-LCD产业的各世代厂房之差异,其实原理相当简单。各世代厂房主要的差别就在玻璃基板的尺寸,而面板就是从大片玻璃基板去切割而成的产品。跨越新世代的厂房,其玻璃基板越大,因此可切割出更多片面板,以提高产能降低成本,或是可以生产出更大尺寸的面板 ( 例如液晶电视面板 )。 1990年代TFT-LCD产业刚崛起于日本,当时日本设计建造了一代厂( 简称G1 )的制程。 一代厂的玻璃基板大约是30 X 40公分大小,约相当于全开的杂志,可做成一片15吋的面板。 到了达碁科技 ( 其后与联友

5、光电合并为 友达光电 ) 于1996进入产业,当时技术已进步到3.5代厂 ( G3.5 ),玻璃基板尺寸约为60 X 72公分。 演进至今,友达光电已发展至7.5代厂(G7.5)制程,而G7.5玻璃基板尺寸则达到了195 X 225公分,可提供40吋以上面板的最佳切割,以生产大尺寸的液晶电视用面板。它可切割出8片42吋或6片46吋的大型面板,让您在家中即可享受到大型液晶屏幕的剧院级视觉震撼。友达G7.5代厂房于2006年第四季开始量产,至2007年底,月投片量已达六万片玻璃基板。友达更计划下一座G7.5 / G8.5 复合式厂房(hybrid fab),G8.5玻璃基板尺寸达220 x 250

6、公分,相当于一张撞球台的大小,但玻璃厚度却不到1mm,因此新世代厂房需要更高的制程技术。G8.5代厂玻璃基板可切割6片55吋或8片46吋面板,主要用来生产46吋以上的大型面板。 随着大尺寸面板的技术渐趋成熟,友达光电未来仍将持续专注于新世代厂房的开发,以提高产能、提升制程质量与客户服务为目标,持续迈进。http:/ TFT-LCD架构及模块全工程 LCD一般于上下透明电极间灌入厚度约34um的液晶层,藉灌入像素(Pixel)电极电压的方式来控制液晶夹层电场大小,进而调节穿透光的强度,使产生介于全亮与全暗之间的灰阶画面(Gray level)。目前LCD主要由彩色滤光片(Color filter

7、, CF)、TFT数组(TFT Array)基板和背光模块(Backlight)三大部分所组成如图1 (a)。TFT-LCD的每个Pixel均具有一组TFT来控制其电压值,而欲使背光模块产生并透过LC的光线具有不同的颜色,那就需要红、蓝、绿(R/B/G)三种颜色的色阻成膜在CF玻璃上,搭配灰阶产生全彩效果;在分别完成TFT数组和CF基板制作后,接着将CF上板与TFT下板间灌注LC并对组贴合,最后附上偏光板(Polarizer),此段制程称为LCD制程;而最后的LCM制程,其为驱动IC以及控制电路板(PCBA)与玻璃基板的连接 (JI Process),之后再与背光模块进行组装(MA Proce

8、ss) ,最后就是模块的点灯检测等如图1 (b)。AUO TFT-LCD制程技术之优势持续投资新世代厂房图2 G8.5玻璃基板尺寸 友达光电(以下简称友达)已发展至8.5代厂以上的制程,以生产大尺寸的液晶电视用面板(如图2)。2008年12月友达成功点亮国内第一片于G8.5厂房生产的46吋液晶电视面板,制程技术再度领先全台,在TFT-LCD新世代厂房的里程碑中写下崭新的一页,亦建立TFT-LCD绿色厂房新典范。G8.5玻璃基板尺寸相当于一张撞球台的大小,但玻璃厚度却不到1mm,因此新世代厂房需要更高的制程技术;随着大尺寸面板的技术渐趋成熟,友达未来仍将持续专注于新世代厂房的开发,以提高产能、提

9、升制程质量,瞄准客户服务为目标持续迈进。大力落实绿色生产技术 次世代制程技术发展方向不外乎藉由简化制程,及选用最佳化的原物料、零组件方式,以提升制程良率与产能,并降低生产成本。前段TFT Array、CF的制程设备资本投资约占TFT-LCD整线支出的6成以上,故前段的制程研发首重制程简化和提高原物料利用率:例如简化光罩程序的四道光罩技术(见图3 (a)与无须曝光、蚀刻的图案成型方法。此外,利用薄化玻璃基板的使用,不仅减少了玻璃原料的消耗,在产品上更具有轻量化、薄型化的优点;同时更能达到减少包装材料、提升运输效率等节能减废的目的。至于LCM则在图3 (b)中的闸极驱动电路基板技术(Gate on

10、 Array, GOA)、HSD (Half source driving)技术的长足发展下,不但精简了传统面板对于大量驱动IC的材料依赖性,也有助于LCM产能提升。在模块背光源方面,以发光二极管(Light Emitting Diode, LED)取代传统冷阴极灯管不但避免了灯管中汞(Hg)蒸气对环境的危害;LED较佳的发光效率,也使产品更加的节能。图3(a)图3(b)图3. 友达采用绿色生产技术 以TFT-LCD制程技术为本,勇闯面板蓝海图4(a)图4(b)图4. 3D与触控等面板新应用的崛起 当前LCD产业发生了根本性的变化,从过去追求量产规模转而朝向提高企业核心竞争力及产品附加价值上去

11、发展。面对新的态势,友达本着前段大面积TFT生产流程的经验,和后段电控驱动、光机设计组装的优异表现,正以现有的TFT-LCD制程技术为基础逐步规划、快速实现面板产业的下个10年大计。这波面板变革在新应用方面有3D (图4 (a)、触控面板(图4 (b)等;而新技术上的布局则为持续开发有机发光二极管(OLED)、场发射式显示器(FED)和电子纸(E-paper)等新兴显示技术。http:/ (Multi-domain vertical alignment) 技术 Vertical alignment (VA)垂直配向技术特征为液晶分子垂直于配向膜表面。在不施加电场时,液晶分子垂直排列没有相位差而

12、有极佳的暗态表现。施加电压后,液晶倾倒产生相位差进而形成亮态。另外,透过设计划素结构和电场分布,让液晶倾倒于多个方向达到多域分割(Multi-domain),进而提升大视角的光学表现。简言之,MVA (Multi- domain Vertical Alignment)是一种有极佳暗态表现的广视角技术。 MVA多用4个domain的配置,画素会在上板做凸块设计,下板则为ITO slit。凸块有较强的液晶倾倒控制力,但不给电压时液晶仍会微倾造成暗态漏光。ITO slit控制液晶倾倒的力量较凸块弱,但该处液晶在不给电压时几乎完全站直,暗态时不会有漏光的问题。MVA在上板凸块/下板ITO slit架构

13、下,不论反应时间、对比、穿透率都有很好的光学表现。http:/ LTPS ?LTPS (Low Temperature Poly-Silicon ) 是一种以硅为基底,由许多约为0.3 至数个um 大小的硅晶粒所组合而成的材料。在半导体制造产业中,多晶硅通常需要以高于900C的温度退火形成,此方法即为SPC (Solid Phase Crystallization) 。然而受限于玻璃的形变温度只有650C,SPC方法却不适用于平面显示器制造产业,因此LTPS技术即是特别应用在平面显示器的制造上的多晶硅成膜技术。 图片说明 硅结构图及迁移率示意图LTPS技术之特色LTPS低温多晶硅的制程远比a-

14、Si复杂许多,然而LTPS TFT的载子迁移率(mobility) 比a-Si TFT高出一百倍(100 cm2/Vs),并且可以在玻璃基板上直接进行CMOS制程。以下列出几种p-Si优于a-Si 的特性: 窄框化(slim border):传统非晶硅显示器架构需要使用二至三方边缘来贴驱动IC窄框化不容易, 低温多晶硅可直接整合驱动电路于玻璃基板上,使面板同时具备有窄框化与高画质的特性。另外,低温多晶硅整合电路的特点减少了外接讯号数目,模块零组件约可降低40%,有效降低成本。 模块紧密:由于部份驱动电路可制作于玻璃基板上,因此PCB上的电路相对简单,因而可节省PCB之面积。 高开口率及高分辨率

15、:高迁移率代表使用几何尺寸较小的晶体管即可提供足够的充电能力且电容值较传统非晶硅高,因此光穿透的有效面积变大。可用较少的背光灯管或较低功率消耗达到相同的亮度,以及达到高分辨率需求。 Vehicle for OLED:有机电激发光(OLED)显示器具有反应速度快、重量轻、低耗电与广视角等优点。有别于传统液晶显示器驱动方式,有机发光二极管驱动方式为特殊的电流驱动架构,还有为了克服灰阶与面板均匀性所设计的补偿电路,需要在一个画素中需要二至六个薄膜晶体管,而低温多晶硅(LTPS)高密度布局特点,可以使得高亮度与高画质的有机发光二极管面板更容易实现,且可提高有机发光二极管寿命。高迁移率代表可提供OLED

16、 Device较大之驱动电流,因此较适合作为主动型OLED显示器之基板。 AUO LTPS技术优势与特色随着消费性电子产品快速发展,轻、薄、低耗电、高分辨率与高效能的AUO LTPS显示器产品已被广泛应用于各种产品,如高阶手机(smart phone)、个人数字助理(PDA)、导航系统(Navigation System)、数字相机(DSC)等。AUO目前LTPS高阶产品主流规格,分辨率可达到270ppi以上,搭配AUO PSA(Polymer Stabilized Alignment)技术,对比可达到1000:1,以及Touch Panel技术,适合应用于高阶手机(Smart phone)或

17、是高阶数字相机(DSC)。 图片说明 AUO LTPS 3吋面板高分辨率产品 分辨率 : 270PPI 开口率 : 50% 窄框化 : 1.8mm 对比 : 1000 : 1 低温多晶硅(LTPS)的设计准则较传统的非晶硅薄膜晶体管小许多,具有高开口率与高分辨率的优势,藉由透光率提升有效的减少背光系统负担,增加低温多晶硅面板的寿命。但低温多晶硅微缩化后易受到多晶硅晶界数量与位置影响而造成LTPS TFT漂移与不均匀,为了不让多晶硅的晶界成为载子移动的障碍,下一代低温多晶硅的开发重点在于如何控制晶界数目、晶格方向与位置,并达到硅薄膜晶体管通道中无晶界的目的,因而衍生出许多相关的结晶技术,如连续硅

18、晶界、循序性侧向结晶、连续波雷射横向结晶及选择性扩大雷射结晶制程等。因此不断追求面板附加价值与创意,方是低温多晶硅未来开发重点。显示技术 - OLED - E-paper - 3D - Touch - FED - AMVA - LEDhttp:/ organic light emitting diode什么是 OLED ? 有机发光二极管(organic light emitting diode, OLED)是一种利用有机半导体材料在电流驱动下自发光的组件。1963年 Pope教授等人在5 nm单层蒽 (anthracene)晶体上施加电压,使之发出了蓝光,这是人们第一次发现到有机材料电激发光

19、(electroluminescence, EL)的现象,但因当时操作电压超过了一百伏特,而且只发出了很微弱的光线,所以并没有受到重视。一直到了1987年,在美国柯达的邓青云博士(Ching W. Tang) 与Steve Van Slyke博士等人以多层有机小分子的结构,在不到10伏特的驱动电压下,发出了外部量子效率达1%的绿光,才开始引起世人关注。如图1所示,将OLED加上一正向偏压,当载子能量足以克服接口能障后,电洞会从阳极注入到电洞传输层的HOMO能阶,电子会从阴极注入到电子传输层的LUMO能阶。同时,在外加电场的驱动下,载子会往发光层移动。当电洞与电子在具有发光特性的有机层中再结合后

20、,将形成不稳定的激发子(exciton),此时激发子若以光的形式回到基态,则将形成电激发光现象。图1 OLED组件电激发光示意图OLED技术之特色OLED显示器可以不需要彩色滤光片以及背光模块,因为它有着自发光的特性,所以OLED显示器可以有较低的功率消耗、更轻薄的体积、极高的对比度,而且更容易制作在可挠曲基板上。藉由结构的设计也可以轻易达到NTSC100%的广色域,同时也不会有液晶所产生的视角或是反应速度问题。在众多新兴显示技术之中具有非常大的潜力。OLED除了显示器,包括3D、可挠曲式、透明式或是一般显示器的应用外,利用在照明上也有其优势。OLED照明除了能够达到高效率及省电的目的之外,同

21、时也不会有荧光灯的汞污染问题,将成为次世代的照明。OELD是温暖柔和的面光源,而且具备了轻、薄、可挠曲和大面积的特性,所以在豪华设计的照明艺术以及功能性的照明将非常容易被应用。AUO OLED技术之优势与特色随着技术的演进,OLED显示器朝着主动式大尺寸发展是必然趋势,友达光电在2006年量产了全球首款AMOLED手机面板:BenQ-Siemens S88(图2),显示了友达光电AMOLED技术在各大面板厂中的领先地位。另外,近年来触控面板技术成熟,将触控组件整合于面板内的In-cell touch技术,已经能够搭配LCD显示器量产,倘若要达到更轻薄、省电的目标,In-cell touch技术

22、与OLED显示器的整合也会是大势所趋。图2 BenQ-Siemens S88对于低耗电的应用端需求来说,磷光OLED技术将不可或缺,AUO是全球第一家成功导入磷光OLED组件于AMOLED量产之厂商,对于磷光OLED组件技术耕耘已久,有相当程度之技术掌握。从2000年AUO成立OLED研发团队至今,我们在多次的国际会议及展示会场上发表过世界第一的技术,包括用a-Si TFT-driven AMOLED、double-sided AMOLED、High resolution AMOLED without shadow masking、in-cell touch & transparent AMO

23、LED等,均为OLED产业上之参考指标。在此同时,AUO亦努力于LCD、OLED、FED、电子纸、氧化物晶体管等技术之横向整合,藉由不断地技术及创意激荡,我们相信,我们必能引领世界潮流不断前进。http:/ 技术什么是 E-Paper ?电子纸(E-Paper)是一种新型的显示器,其原理为利用特殊的薄膜(film)外加上下电场差异,使得(film)内粒子(particles)上下移动且观察者或使用者可以观赏如同纸张效果的字体或文件。现今的薄膜技术上大致分为以下: (1) 微杯式电泳(Micro cup electrophoretic) (2) 微胶囊电泳(MEP)(2) 旋转球(Gyricon

24、 Bead) (3) 胆固醇液晶(Cholesteric Liquid Crystal)。微杯式电泳(Micro cup electrophoretic) 微胶囊电泳(MEP)旋转球(Gyricon Bead)胆固醇液晶(Cholesteric Liquid Crystal)AUO E-Paper Microcup技术AUO微杯电泳式电子纸薄膜是于有透明导电层的塑料薄膜上涂布压模液体,经连续式微压模制程产生微杯数组,填入电泳显示液体后,涂布密封液体再加以固化。下图所示是微杯架构电子纸模块结构示意图。从上至下的结构依次为塑料基板(PET Plastic), 透明导电层(Transparent C

25、onductor);充满电泳显示液体的微杯数组、封装层(Sealing Layer)、粘合层(Adhesive Layer)以及与电子纸薄膜粘合的导电背板(Patterned Conductor)。AUO微杯式电泳(Micro cup electrophoretic)透过供电给导电背板及透明导电层形成正负电场来驱动带正电的白色微粒移动,形成眼睛所看到的图案。以上图为例,左边的背板产生负电电极,将微粒吸附至底端,因此人眼会看到黑色,右边的背板产生正电电极,驱使白色微粒移动至透明导电层端,人眼因此看到白色。当停止供电时,微粒因物理特性会维持在当下的位置,直到再度供电时,这些微粒才会再度被驱动,这就

26、是所谓双稳态特性。因显示器不必供电即可维持画面显示,且因其反射式的显示特性可省去背光模块的电力,电子纸因此具有低功耗的优势。目前的技术已可藉由控制白色微粒的移动距离而形成十六阶灰阶显示。AUO微杯构造可透过形状和尺寸改变来调整显示结果以及结构强度。下图是AUO采用的两种标准微杯形状,根据应用方向的不同而选用不同微杯形状结构的电子纸。填充系数较小的四方形微杯提供较佳结构强度,同时也提升了电子纸的抗压性,适合用在显示型智能卡之类对强度需求较高的应用产品上。填充系数较大的六角形微杯则能够提供高白度,高对比的显示结果,符合电子书、电子信息广告牌等产品的应用需求。电子纸显示图形之分辨率高低则取决于背板之

27、支持能力。从下图当中即可清楚看到图形的显示与微杯形状及大小无关,图形显示取决于背板之电极排列,亦即在同一个微杯内,可显示不同电极之资料。因此电子纸与矩阵式背板贴合时无须对位。六角形和四角型微杯架构在兼顾环保、健康、节能省碳的条件下,电子纸(E-Paper)无疑是未来主流的显示器加阅读器。AUO以Sipix的微杯式电泳(Microcup-electrophoretic)为薄膜(film)加上在TFT-array的丰富经验而使用整合型驱动IC(All in One Driver IC),可以拥有(1)低成本(low cost): Sipix薄膜(film)采用 roll-to-roll制程,可以大

28、幅提升良率且AUO使用整合型驱动IC,两者可大幅降低成本(2)低功率消耗(low power consumption): 在电子纸(E-paper)上,AUO采用整合型驱动IC比其它业者使用独立的源级驱动IC(Source Driver IC)和闸级驱动IC(Gate Driver IC)来得更省电。http:/ 立体显示技术 ? 何谓一个合格的立体显示器?其实简单来说,只需要做到一件事,就是可以独立的显示双眼所需的影像并且精确地传送到两只眼睛。而两个独立的影像互相干扰的情形称为串扰现象(cross-talk),为破坏立体影像及造成晕眩不适最大的元凶。要达到独立显示左右眼影像的效果,一般我们习

29、惯从技术上分为眼镜式及裸眼式。眼镜式主要是利用眼镜作为分开左右眼影像之滤镜,有利用不同光穿透波长的色差眼镜(anaglyph) 、以正交之光偏极态来区分的偏光眼镜(polarizer glasses)以及从时间上来区分的快门眼镜(shutter glasses)。而裸眼式没有眼镜的帮忙,唯一的方式是利用特殊设计的光学组件,如视差屏障(barrier)、透镜数组(lenticular lens)或者是指向性背光(directional back light),将不同影像在空间中朝不同角度传送。由于双眼在空间中的位置不同而接收到不同组影像来达到所谓独立的显示双眼所需的影像。当然以上所提的是目前较为

30、成熟并可量产之技术,许多还在研发中的如全像式(holographic) 、半全像(semi-holographic)、体积式(volumetric)等都是未来立体世界无限的可能。友达立体显示技术偏光眼镜式: 为了让影像拥有两组不同且互相正交的光偏极态,就必须要利用额外的光学组件来达到这样的效果。我们将所有的画素分成单数行及偶数行,而在其显示器外相对应之位置镀上位相差膜使其输出之光带有互相正交(phase difference = 90)之偏极态。而观众所配戴之偏光眼镜设计成对应单数行及偶数行之偏极态则双眼可接收其对应之偏极态的影像而另一个影像会被与其正交之偏光片阻挡而达到独立的显示双眼所需的影

31、像,架构如图1所示。由于观众再观赏立体内容的过程中,头部并不会一直保持完全的直立。若是利用线偏极的设计,在头部旋转时会造成左右眼影像串扰(cross-talk)的现象,一般在设计上会尽量用圆偏的设计。换句话说,其正交的偏极态为左旋即右旋,及不受头部角度之影响。柱状透镜数组 (Lenticular Lens Array): 柱状透镜的技术主要是在一般的显示器的外面加上周期性排列的柱状透镜数组。其设计需配合视点设计及画素大小,使不同之次画素透过透镜在不同角度及位置做成像的动作。由于每个次画素在空间上位置不同,相对于柱状透镜之离轴程度亦不同。只要设计得当,可以使得部分的次画素只在其中一个视点显示,再

32、配合上不同视点所拍摄之画面或图片即可达到立体显示之效果(如图2所示)。由于此技术是利用光学成像原理造成视差的效果,其光学利用率相当高。其些许的亮度损失主要来自于表面之接口反射、透镜材料之透光度以及表面缺陷之光散射。图1. 偏光眼镜立体技术示意图。图2. 透镜数组立体技术示意图。AUO 立体显示技术之优势眼镜式:1.被动式偏光眼镜,本身具备重量轻,不需充电,无电磁波等 user friendly的特点,适合长时间使用。2.具备高亮度之3D mode,符合一般电视使用习惯,眼睛不易疲劳或不适。3.整体in-house制程,拥有低成本及产品线完整之优势。4.特殊3D pixel设计,较其它类似技术拥

33、有较大之垂直视角。5.低x-talk设计,可显示高景深立体影像。裸眼式:1.高亮度矩阵透镜设计,较传统技术亮度提升 300%。2.特殊光学设计达到无morei之光学影像质量。3.低x-talk设计,可显示高景深立体影像。4.完整之total solution,提供客户plug and play的服务,无需另外开发系统或软件。http:/ 投射电容式触控技术 内嵌式触控(In-Cell Touch)技术光学影像式触控技术 光学影像式触控的原理为,透过两个角落的CCD或CMOS摄影机,侦测触控物体所形成的阴影,经由三角定位找出触控之位置。光源以PWM型式配合摄影机撷取时间,由Optical Sen

34、sor端发出并以扇形涵盖整个作动区,通常为红外光(IR)。这些在水平面上不同角度的光线,经由三边边缘上的回溯型反射片(Retro-reflector),可反射回到原来发射的位置,即进入摄影机内;或利用导光条的方式达成。因此每条光线皆扮演着重要的角色。一旦有外界物体(例如:手、笔)阻断了部份光线的路径,意即无法回到摄影机内,我们即可利用摄影机具角度选择的特性得知角度,最后再利用三角函数计算出于平面上之坐标位置。在Retro-reflector的部份,为3M专利之产品,多用于交通标志与交通工具上,可增加夜晚之被视性,现今在此技术上也具一定程度的重要性。光学影像式触控之架构Retro-reflect

35、or夜晚回溯之反光特性Retro-reflector之底面结构Retro-reflector夜晚回溯之反光特性AUO 光学影像式触控技术之优势与特色 光学影像式触控技术具备多项优点,与电阻电容式比较起来包括:准确、穿透率高、有弹性、可靠度佳、损坏率低、成本低以及支持多点触控手势。碍于此种架构的机构空间需求较多,在小尺寸并无特殊之长才,但在中大尺寸方面却非常容易切入市场。传统光学式触控模块侧视图 现有市场上存在的光学影像式触控屏幕,皆有模块厚度厚、重量重、触控面与系统壳落差大、组装变异大和成本高等缺点。因此AUO已掌握了上述缺点之改良方法,利用机构与光学上的配合设计,使得触控模块的厚度仅增加不到

36、2mm,亦可减轻组装变异性与提高良率,即使不需厚重但坚固的玻璃支撑,亦能保持原有的功能性。在厚度、重量与随之而来的成本皆降低下,可提高客户端对此产品之兴趣,顺应Windows 7的潮流下,中大尺寸标准配有触控功能之产品指日可待。因此,AUO在此技术的突破,将有机会使此技术推向普及化的局面。投射电容式触控技术: 投射电容式触控技术的原理为触控面板表面在受到物体(如手指)的碰触之后,电容会相应产生改变,藉由量测该变化来得知触点的发生。市面上新兴的触控产品(如智能型手机、平板计算机等)大多采用投射电容式触控,是因为有支持单点、多点触控,以及手势辨认等功能,可有许多应用发展。投射电容式触控技术为何投射

37、电容式触控技术的原理为触控面板表面在受到物体(如手指)的碰触之后,电容会相应产生改变,藉由量测该变化来得知触点的发生。市面上新兴的触控产品(如智能型手机、平板计算机等)大多采用投射电容式触控,是因为有支持单点、多点触控,以及手势辨认等功能,可有许多应用发展。投射电容式触控面板结构分解图投射电容式触控面板结构图.投射电容式触控面板是蚀刻透明电极(例如ITO)以形成两种分开的电极,两种电极分别延伸于X方向与Y方向上,该等电极会形成一片电极格网,并且其上会覆盖一介电层(例如玻璃),当以物体接触该介电层表面时,就会对电容造成变化,藉由量测出该电容的变化以及扫描出变化处即可判断出触碰并且得到触点位置。根

38、据所量测的电容不同,又可将投射电容分为自电容 (self capacitance) 与互电容 (mutual capacitance)两种。如下图所示,分别为自电容式与互电容式触控面板在触碰前后的差异。自电容式触控面板 - 未经触碰自电容式触控面板 - 经触碰互电容式触控面板 - 未经触碰互电容式触控面板 - 经触碰自电容型的触控技术是量测各电极的电容的变化来测得触点,收集信号时,是对X与Y方向的电极分别扫描,藉由X与Y方向电极的组合得知触点的坐标,但在多点触控时会有误判,即为所谓的鬼点(Ghost Points);而互电容型与自电容型的差别在于量测的电容不同,如上图所示,在手指触碰时,互电容

39、型是量测两电极间的互电容变化来测得触碰,在扫描时,是量测一条X与一条Y电极之间的互电容值。因此,可直接测得触点坐标而不会有鬼点产生,故可达到真正的多点触控。因此在多点触控的应用上,互电容型是较佳的选择。自电容式触控面板 - 未经触碰自电容式触控面板 - 经触碰投射电容式触控面板AUO 投射电容式触控技术之优势投射电容式触控技术相较于其它的技术有许多优势,例如不需使用触控笔、耐久性良好、可支持多点触控以及手势等。此外,AUO利用结构上的改变将投射电容式触控面板的厚度及重量减少,透光率也因而随之增进。更进一步,由于AUO本身为面板厂,可将投射电容式触控面板制作为内嵌式(in-cell)的结构,即在

40、制作LCD的制程中,直接将触控面板整合在LCD面板之上,可达到更为轻薄的结构,如下图所示,即为传统on-cell结构与AUO可制作的in-cell结构图,可见其厚度的差异。AUO 投射电容式触控技术之优势投射电容式触控技术相较于其它的技术有许多优势,例如不需使用触控笔、耐久性良好、可支持多点触控以及手势等。此外,AUO利用结构上的改变将投射电容式触控面板的厚度及重量减少,透光率也因而随之增进。更进一步,由于AUO本身为面板厂,可将投射电容式触控面板制作为内嵌式(in-cell)的结构,即在制作LCD的制程中,直接将触控面板整合在LCD面板之上,可达到更为轻薄的结构,如下图所示,即为传统on-c

41、ell结构与AUO可制作的in-cell结构图,可见其厚度的差异。On-cell 结构In-cell 结构.此外,AUO近年也致力于放大应用尺寸,目前已逐一改善各项问题,电容式触控面板开始朝中大尺寸发展,应能为市场上带来更新颖的应用。内嵌式触控(In-Cell Touch)技术电阻式与电容式AUO in-cell touch 主要分为压力式(Voltage Sensing)如Fig.1,与电容式(Charge Sensing)如Fig.2两种。Voltage Sensing是将压力侦测组件整合至TFT的制程中,当有压力施于LCD面板上使之产生形变,会产生不同的电压变化,藉此分辨坐标位置。Cha

42、rge Sensing是将侦测电容变化的电极,排列至Color Filter的另一侧,当手指触摸面板,透明电极与人体之间的静电结合,会产生不同的电容变化传送至控制IC来计算坐标。 Fig.1 AUO压力式内嵌触控结构图Fig.2 AUO电容式内嵌触控结构图On-Cell vs. In-Cell传统的电容、电阻触控技术必须将触控屏幕外挂在LCD上如Fig.3所示,因此相较于AUO内嵌式触控技术(Fig.4) ,多了 一片Sensing Glass,不仅增加LCD的整体厚度,也必须多一道贴合的制程,使得成本上升相对的良率会降低,透光度也下降。In-cell voltage sensing与传统电阻

43、式(resistive)触控相比,不但有上述的优点,灵敏度不易受周遭环境影响,不需校正机制,以及能支持多点触控更是AUO的优势。In-cell charging sensing与传统电阻式和电磁式(digitizer)触控相比,由于用手指轻碰就能感应,操作接口更为人性化,操作上也不会磨损触控面板,使用寿命较长。再者charging sensing不仅能支持多点触控,目前更进一步支持导电笔的书写,同时满足客户不同的需求。 Fig.3 常见的触控技术结构图(外挂式)Fig.4 AUO电容式内嵌触控技术结构图内嵌式触控技术之优势多点触控技术在人机接口的发展趋势上扮演了关键的角色,在未来的产品应用上,

44、势必会越来越普遍。为了展现较佳的光学表现及更低的成本结构,内嵌式触技术势必成为未来的主流。http:/ Emission Display)技术什么是 FED ? 场发射显示器(Field Emission Display,FED)是最类似传统阴极射线管显示器(Cathode Ray Tube Display,CRT)的新兴平面显示技术,藉由背面基板的阴极放电,放出电子到前板的荧光层上激发荧光体发光。FED 的发光方式与 CRT 相异之处:CRT :加热阴极产生热电子,并利用电磁场控制电子偏向,在荧光幕上扫描寻址。FED :电子发出方式是平面状,电子直接向前射出到对应的画素。 图一:CRT与FE

45、D原理的比较FED技术为何? 场发射显示器(Field Emission Display,FED)的基本结构大致上是由阳极板(Anode Plate)、阴极板(Cathode Plate) 以及侧墙(Frit Seal)、隔离器(Spacer) 和吸气装置(Getter) 所组成。首先单独制造阳极和阴极板,然后与其它组件装配在一起,再用玻璃粉或其它材料加以密封,最后抽取真空。图二:FED基本结构FED技术之特色FED兼具传统CRT与LCD的优点,主要有以下几项特色:1. FED使用impulse type驱动模式,反应速度快,无残影,可获得自然、平滑、逼真的动画显示。传统LCDSpindt FED 图三:传统LCD与Spindt型FED在12 pixels/frame下的动画影像2. FED属于自发光显示器,可减少背光模块之耗能,另外此自发光模式也可达到大于20000:1的高对比度。3. FED属于自发光显示器,可减少背光模块之耗能,另外此自发光模式也可达到大于20000:1的高对比度。 4. FED利用荧光粉的自发光性,视角宽,在大视角下依然能维持高色彩质量。 5. FED具有操作温度范围大与高耐环境性的特质。 6. FED利用电子激发荧光粉发光,因此可表现高色纯度与色再现性。 7. FED利用场发射原理,可节省热发

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