《2019-2020同步苏教化学必修一新突破课时分层作业：19 含硅矿物与信息材料 Word版含解析.doc》由会员分享，可在线阅读，更多相关《2019-2020同步苏教化学必修一新突破课时分层作业：19 含硅矿物与信息材料 Word版含解析.doc（4页珍藏版）》请在三一文库上搜索。
1、课时分层作业(十九)(建议用时：25分钟)合格基础练1下列叙述正确的是()ANa2SiO3是硅酸盐，但不能溶于水B电影银幕用水玻璃浸泡，主要是了为防腐C建筑工业常用水玻璃作黏合剂D用水玻璃浸泡铁道的木制枕木，主要是为了防火CNa2SiO3既是硅酸盐，又是钠盐，硅酸盐大多难溶于水，而钠盐均易溶于水；浸泡银幕主要是为了防火，而浸泡枕木主要是为了防腐；水玻璃有黏合作用，常作黏合剂。2下列关于水玻璃的性质和用途的叙述中不正确的是()A这是一种矿物胶，既不燃烧也不受腐蚀B在建筑工业上可以作黏合剂、耐酸水泥掺料C木材、织物浸过水玻璃后具有防腐性能且不易燃烧D水玻璃的试剂瓶可用磨口玻璃塞D水玻璃能够粘结玻璃
2、，试剂瓶塞应用橡皮塞。3下列说法正确的是()A硅的化学性质不活泼，常温下不与任何物质起反应BSiO2是制造玻璃的主要原料之一，它在常温下不与NaOH溶液反应C电脑芯片的主要成分是SiO2DCO2通入水玻璃中可以得硅酸DA中硅常温下能与F2、HF反应；B中SiO2常温下可与NaOH溶液反应；C中电脑芯片的主要成分是Si；D中反应为Na2SiO3CO2H2O=H2SiO3Na2CO3。4昆仑玉的成分可简单看成是Ca2Mg5Si8O22(OH)2，则其用二氧化硅和金属氧化物的形式可表示为()ACaOMgOSiO2H2OB2CaO5MgO8SiO2H2OC2CaOMgOSiO22H2OD5CaO2Mg
3、O8SiO2H2OB根据昆仑玉的化学式，将Ca、Mg、Si、H分别写成氧化物的形式，按较活泼金属氧化物较不活泼金属氧化物SiO2H2O的顺序排列，再调整各氧化物前的计量数并使其与昆仑玉化学式中一致，可得昆仑玉氧化物表示形式为2CaO5MgO8SiO2H2O。5下列叙述正确的是()ACO2和SiO2都是酸性氧化物，所以两者物理性质相似B因为CaCO3SiO2CaSiO3CO2，所以硅酸的酸性比碳酸强CCO2和SiO2都能与碳反应，且都作氧化剂DSiO2既能和NaOH反应，又能和HF反应，所以二氧化硅属于两性氧化物CCO2和SiO2都是酸性氧化物，和其物理性质无因果关系，CO2熔、沸点低，硬度小，
4、微溶于水，SiO2的熔、沸点高，硬度大，不溶于水。CO2和SiO2的物理性质相差较大，A项不正确；CaCO3SiO2CaSiO3CO2，反应进行的原因是因为SiO2沸点高，CO2沸点低，而“较强酸制较弱的酸”是溶液中复分解反应规律，B项不正确；CO2和SiO2都与碳反应，碳作还原剂，CO2和SiO2作氧化剂，C项正确；SiO2与HF反应是HF的特性，SiO2不与其他酸反应，故SiO2不属于两性氧化物，D项不正确。6为确认HCl、H2CO3、H2SiO3的酸性强弱，某学生设计了如下图所示的实验装置，一次实验即可达到目的(不必选其他酸性物质)。请据此回答： (1)锥形瓶中装某可溶性正盐溶液，分液漏
5、斗所盛试剂应为_。(2)装置B所盛的试剂是_，其作用是_。(3)装置C所盛试剂是_，C中反应的离子方程式是_。(4)由此得到的结论是：酸性_。解析根据强酸弱酸盐弱酸强酸盐分析可知，分液漏斗中盛装盐酸，A中盛放Na2CO3，根据Na2CO32HCl=2NaClH2OCO2可以知道酸性HCl强于H2CO3，然后将生成的CO2通入Na2SiO3溶液中，反应为Na2SiO3CO2H2O=H2SiO3Na2CO3，由此判断酸性H2CO3H2SiO3，但需注意的是A中反应会有HCl气体逸出，故通入Na2SiO3溶液前需将HCl吸收，但不能吸收CO2，故选用饱和NaHCO3溶液。答案(1)盐酸(2)饱和Na
6、HCO3溶液吸收HCl气体(3)Na2SiO3溶液SiOCO2H2O=H2SiO3CO(或SiO2CO22H2O=2HCOH2SiO3)(4)HClH2CO3H2SiO3等级过关练7将过量的CO2分别通入：CaCl2溶液浓Na2SiO3溶液Ca(OH)2溶液饱和Na2CO3溶液。最终溶液中有白色沉淀析出的是()ABC DBCO2溶于水：CO2H2O=H2CO3，H2CO3的酸性比盐酸弱，而比硅酸强。根据酸与盐反应的规律，CO2通入CaCl2溶液无明显现象；过量的CO2通入浓Na2SiO3溶液中有白色沉淀H2SiO3生成；CO2通入Ca(OH)2溶液至过量，Ca(OH)2CO2=CaCO3H2O
7、，CaCO3H2OCO2=Ca(HCO3)2，最终生成Ca(HCO3)2而无沉淀；过量CO2通入饱和Na2CO3溶液中：Na2CO3H2OCO2=2NaHCO3，生成的NaHCO3溶解度比Na2CO3溶解度小而结晶析出。8硅单质及其化合物应用范围很广。请回答下列问题：制备硅半导体材料必须先得到高纯硅。三氯甲硅烷(SiHCl3)还原法是当前制备高纯硅的主要方法，生产过程示意图如图所示：(1)写出由纯SiHCl3制备高纯硅反应化学的方程式：_。(2)整个制备过程必须严格控制无水无氧。SiHCl3遇水剧烈反应生成H2SiO3、HCl和另一种物质，写出配平的化学方程式：_；H2还原SiHCl3过程中若混入O2，可能引起的后果是_。解析(1)根据质量守恒定律可知，SiHCl3与H2在高温下反应，生成Si和HCl，反应的化学方程式为SiHCl3H2Si3HCl。(2)根据质量守恒定律，SiHCl3遇水剧烈反应生成H2SiO3、HCl和H2，反应的化学方程式为SiHCl33H2O=H2SiO3H23HCl。H2还原SiHCl3过程中若混入O2，高温下，H2遇O2发生爆炸。答案(1)SiHCl3H2Si3HCl(2)SiHCl33H2O=H2SiO3H23HCl高温下，H2遇O2发生爆炸