《镀：真空的获得与真空镀膜.docx》由会员分享，可在线阅读，更多相关《镀：真空的获得与真空镀膜.docx（16页珍藏版）》请在三一文库上搜索。
1、真空的获得与真空镀膜真空分为自然真空和人为真空。自人为真空：用真空泵抽掉容器中的首创著名的大气压实验，获得真压强低于一个标准大气压的稀薄气体空间称为真空。然真空：气压随海拔高度增加而减小，存在于宇宙空间。气体。1643年，意大利物理学家托里拆利(E.Torricelli)空。在真空状态下，由于气体稀薄，分子之间或分子与其它质点之间的碰撞次数减少，分子在一定时间内碰撞于固体表面上的次数亦相对减少，这导致产生一系列新的物化特性，诸如热传导与对流小，氧化作用少，气体污染小，汽化点低，高真空的绝缘性能好等等。真空技 术是基本实验技术之一。真空技术在近代尖端科学技术，如表面科学、薄膜技术、空间科学、 高
2、能粒子加速器、微电子学、材料科学等工作中都占有关键的地位，在工业生产中也有日益广泛的应用。薄膜技术在现代科学技术和工业生产中有着广泛的应用。例如，光学系统中使用的各种反射膜、增透膜、滤光片、分束镜、偏振镜等；电子器件中用的薄膜电阻，特别是平面型晶 体管和超大规模集成电路也有赖于薄膜技术来制造；硬质保护膜可使各种经常受磨损的器件表面硬化，大大增强表面耐磨程度； 在塑料、陶瓷、石膏和玻璃等非金属材料表面镀以金属 膜具有良好的美化装饰效果，有些合金膜还起着保护层的作用；磁性薄膜具有记忆功能， 在电子计算机中用作存储记录介质而占有重要地位。薄膜制备的方法主要有真空蒸发、溅射、分子束外延、化学镀膜等。真
3、空镀膜，是指在 真空条件中采用蒸发和溅射等技术使镀膜材料气化，并在一定条件下使气化的原子或分子牢固地凝结在被镀的基片上形成薄膜。真空镀膜是目前用来制备薄膜最常用的方法。【实验目的】1、了解真空技术的基本知识；2、掌握低、高真空的获得和测量的基本原理及方法;3、了解真空镀膜的基本知识；4、学习掌握蒸发镀膜的基本原理和方法。【实验原理】1、真空度与气体压强真空度是对气体稀薄程度的一种客观度量，单位体积中的气体分子数越少，表明真空度越高。由于气体分子密度不易度量，通常真空度用气体压强来表示，压强越低真空度越高。按照国际单位制(SI),压强单位是牛顿/米2,称为帕斯卡，简称帕(Pa)。真空量度单位换算
4、：1 标准大气压=760mmHg=760(Torr)1标准大气压=1.013x105 Pa1 Torr=133.3Pa通常按照气体空间的物理特性及真空技术应用特点，将真空划分为几个区域，见表1:表1真空区域划分低真空105103中真空3-110 10局真空10 -10-6超局真空10 -6-10-122、真空的获得一真空泵图一真空泵抽气原理1654年，德国物理学家葛利克发明了抽 气泵，做了著名的马德堡半球实验。原理：当泵工作后，形成压差，P1>B,实现了抽气。用来获得真空的设备称为真空泵，真空泵按其工作机理可分为排气型和吸气型两大类。排气型真空泵是利用内部的各种压缩机构，将 被抽容器中的
5、气体压缩到排气口，而将气体排出泵体之外，如机械泵、扩散泵和分子泵等。吸气型真空泵则是在封闭的真空系统中，利用各种表面（吸气剂）吸气的办法将被抽空间的气体分子长期吸着在吸气剂表面上，使被抽容器保持真空，如吸附泵、离子泵和低温泵等。真空泵的主要性能可有下列指标衡量：（1）极限真空度：无负载（无被抽容器）时泵入口处可达到的最低压强 （最高真空度）（2）抽气速率：在一定的温度与压力下，单位时间内泵从被抽容器抽出气体的体积, 单位（升/秒）。（3）启动压强：泵能够开始正常工作的最高压强机械泵：机械泵是运用机械方法不断地改变泵内吸气空腔的容积，使被抽容器内气体的体积不断膨胀压缩从而获得真空的泵，机械泵的种
6、类很多，目前常用的是旋片式机械泵。图二是旋片式机械泵的结构示意图，它是由一个定子和一个偏心转子构成。定子为一圆柱形空腔，空腔上装着进气管和出气阀门，转子顶端保持与空腔壁相接触，转子上开有槽， 槽内安放了由弹簧连接的两个刮板。当转子旋转时，两刮板的顶端始终沿着空腔的内壁滑动。 整个空腔放置在油箱内。 工作时，转子带着旋片不断旋转，就有气体不断排出，完成抽气作 用。旋片旋转时的几个典型位置如图2所示。当刮板 A通过进气口（图 2 （a）所示的位置)时开始吸气，随着刮板 A的运动，吸气空间不断增大，到图 2 (b)所示位置时达到最 大。刮板继续运动，当刮板 A运动到图2 (c)所示位置时，开始压缩气
7、体，压缩到压强大 于一个大气压时，排气阀门自动打开，气体被排到大气中，如图 2 (d)所示。之后就进入下一个循环，整个泵体必须浸没在机械泵油中才能工作，泵油起着密封润滑和冷却的作用。进气口(接至裱抽系统)图二旋片式机械泵的结构示意图(b.)机械泵可在大气压下启动正常工作，其极限真空度可达10-1Pa,它取决于：定子空间中两空腔间的密封性， 因为其中一空间为大气压，另一空间为极限压强， 密封不好将直接影响极限压强；排气口附近有一 “死角”空间，在旋片移动时它不可能趋于无限小，因此不 能有足够的压力去顶开排气阀门；泵腔内密封油有一定的蒸汽压(室温时约为10-1Pa)。旋片式机械泵使用时必须注意以下
8、几点：(1)启动前先检查油槽中的油液面是否达到规定的要求，机械泵转子转动方向与泵的 规定方向是否符合(否则会把泵油压入真空系统)。(2)机械泵停止工作时要立即让进气口与大气相通，以清除泵内外的压差，防止大气 通过缝隙把泵内的油缓缓地从进气口倒压进被抽容器(“回油”现象)。这一操作一般都由与机械泵进气口上的电磁阀来完成，当泵停止工作时，电磁阀自动使泵的抽气口与真空系统隔绝，并使泵的抽气口接通大气。(3)泵不宜长时间抽大气，否则因长时间大负荷工作会使泵体和电动机受损。扩散泵：扩散泵是利用气体扩散现象来抽气的， 最早用来获得高真空的泵就是扩散泵， 目前依然 广泛使用。油扩散泵的工作原理不同与机械泵，
9、 其中没有转动和压缩部件。 它的工作原理是 通过电炉加热处于泵体下部的专用油， 沸腾的油蒸汽沿着伞形喷口高速向上喷射， 遇到顶部 阻碍后沿着外周向下喷射， 此过程中与气体分子发生碰撞， 使得气体分子向泵体下部运动进出水口三根第口一级嗔u水谕衰进水口皴喷n涓蒸气液返油管入前级真空泵。扩散泵泵体通过冷却水降温，运动到 下部的油蒸汽与冷的泵壁接触，又凝结为液体，循环 蒸发。为了提高抽气效率，扩散泵通常由多级喷油口 组成（3、4个），图3是一个具有三级喷嘴的扩散泵 结构示意图，这样的泵也称为多级扩散泵。扩散泵具 有极高的抽气速率，高速定向喷射的油分子在喷嘴出 口处的蒸汽流中形成一低压，将扩散进入蒸汽流
10、的气 体分子带至泵口被前级泵抽走，而油蒸汽在到达泵壁 后被冷却水套冷却后凝聚，返回泵底再被利用。由于 射流具有工作过程高流速（200米/秒）、高密度、高分 子量（300 500）,故能有效地带走气体分子。扩散泵 不能单独使用，一般采用机械泵为前级泵，以满足出 口压强（最大40Pa）,如果出口压强高于规定值，抽力用就会停止因为在一压强下，可以保证绝大部分气体分子以定向扩散形式进入高速蒸汽流。此外若扩散泵在较高空气压强下加热，会导致具有大分子结构的扩散泵油分子的氧化或裂 解.油扩散泵的极限真空度主要取决于油蒸气压和反扩散两部分，目前一般能达到10-510-7Pa。根据扩散泵的工作原理，可以知道扩散
11、泵有效工作一定要油冷水辅助，因此实验中 一定要特别注意冷却水是否通畅和是否有足够的压力。另外，扩散泵油在较高的温度和压强下容易氧化而失效，所以不能在低真空范围内开启油扩散泵。油扩散泵一个不容忽视的问题是扩散泵泵油反流进入真空腔室造成污染，对于清洁度要求高的材料制备和分析过程，这样的污染是致命的，所以现在的高端材料制备、分析设备都采用无油真空系统，避免油污染。通常的真空系统不是只有一种真空泵在工作，而是由至少两级真空泵组成的。本实验中真空系统由两级构成，前级泵是旋片式机械泵构成，二级泵是油扩散泵。3、真空的测量真空的测量就是对真空环境气压的测量，考虑到真空环境的特殊性，真空的准确测量是困难的，尤
12、其是高真空和超高真空环境的测量。一般解决思路是现在真空中引入一定的物理现象，然后测量这个过程中与气体压强有关的某些物理量，最后根据特征量与压强的关系确定出压强。对于不是很高的真空， 可以通过压强计直接测量，这样的真空计叫做初级真空计或者绝对真空计，中度以上真空需要间接测量，这样的真空计叫做次级真空计或者相对真空 计。测量真空度的装置称为真空计。真空计的种类很多，根据气体产生的压强、气体的粘滞 性、动量转换率、热导率、电离等原理可制成各种真空计。由于被测量的真空度范围很广， 一般采用不同类型的真空计分别进行相应范围内真空度的测量，常用的有热偶真空计和电离真空计。热偶真空计通常用来测量低真空，可测
13、范围为1010-1Pa,它是利用低压下气体的热传导与压强成正比的特点制成的。电离真空计是根据电子与气体分子碰撞产生电离电流随压强变化的原理制成的，测量范围为10-110-6 Pa。使用时特别注意：当压强高于10-1Pa或系统突然漏气时，电离真空计中的灯丝会因高温很快被氧化烧毁，因此必须在真空度达到10-1Pa以上时，才能开始使用电离真空计。为了使用方便，常把热偶真空计和电离真空计组合成复合真空计。本实验中用到的真空计是热电偶真空计和热阴极电离真空计，又叫做热偶规和电离规， 其结构如下图所示。它们的工作原理分别简述如下：(1)热偶规在热偶规中，热丝的温度由一个细小的热电偶测量。热电偶就是不同金属
14、绞接构成的， 当两个结构温度不同时， 有温差电动势存在， 也就是所谓的温差电效应。其测量过程是：在 钳丝上加一定的电流， 钳丝温度升高，热电偶出现温差电动势， 它的大小可以通过毫伏计测 量。如果加热电流是一定的，那么钳丝的平衡温度在一定的气压范围内取决于气体的压强， 所以温差电动势也就取决于气体的压强。热电动势与压强的关系可以通过计算得出，形成一条校准曲线。考虑到不同气体的导热率不同，所以对于同一压强，温差电动势也是不同的(通常的热偶规是校准气体是空气或者氮气)。热偶规热丝由于长期处于较高的温度，受到环境气体的作用，故容易老化，所以存在显著的零点漂移和灵敏度变化，需要经常校准。热电偶真空规结构
15、示意图DL- 2型热阴极电离真空规示意图图四热偶规、电离规结构示(2)电离规常见的电离规的结构非常类似于三极管。热阴极灯丝加热后发射热电子，栅状阳极具有较高的正电压。热电子在栅状阳极作用下加速并被阳极吸收。由于栅状阳极的特殊形状，除了一部分电子被吸收外， 其他的电子流向带有负电的板状收集极，再返回阳极。也就是说部分电子要来回往返几次才能最终被阳极吸收。 可以想象，在电子运动的过程中， 一定会与气 体分子碰撞并电离，电离的阳离子被收集极吸收并形成电流。电子电流Ie、阳离子电流I与气体压强之间满足如下关系：(1)113K Ie由此可以确定出气压。 对于很高真空度的情况， 气体分子很稀薄，所以被电离
16、的气体分子数目很小，因此需要配置微电流放大装置和灯丝稳流装置。电离规的线性指示区域是10-3107Torr。电离规是中高真空范围应用最广的真空计。低真空范围内，电离规的灯丝和阳极很容易被烧掉，所以一定要避免在低真空情况下使用电离规。表二给出了常用真空计极其测量范围：表二常用真空计极其测量范围真空计名称测量范围（Torr）真空计名称测量范围（Torr）水银U形真空计760 0.1局真空电离真空计10 3 10 7油U形真空计100 0.01局压强电离真空计1 10 6光干涉油微压计. 1 2. _ 一 410 10B-A超局真空电离计“一5”T010 10压缩真空计（一般型）10 10 5分离规
17、、抑制规. 9. 1310 10压缩真空计（特殊型）10 10 7宽量程电离真空计. 1. 1010 10静态义形真空计760 1放射能电离真空计3760 10薄膜真空计一一-410 10冷阴极磁控放电真空计.2. 710 10振膜真空计 _ 4100010磁控管型放电真空计. 4. 810 10热传导真空计. 1 3110克努曾真空计10 3 10 7热传导真空计100010 3分压强真空计10 3 10 54、蒸发镀膜真空蒸发法就是把衬底材料放置到高真空室内，通过加热蒸发材料使之气化（或者称为升华），然后沉积到衬底表面而形成源物质薄膜的方法。这种方法的特点是在高真空环境下成膜，可以有效防止
18、薄膜的污染和氧化，有利于得到洁净、致密的薄膜，因此在电子、光学、磁学、半导体、无线电以及材料科学领域得到广泛 的应用。具体方法就是在真空中通过电流加热、 电子束轰击加热和激光加热等方法， 使薄膜材料 蒸发成为原子或分子， 它们随即以较大的自由程作直线运动， 碰撞基片表面而凝结， 形成一 层薄膜。蒸发镀膜要求镀膜室内残余气体分子的平均自由程大于蒸发源到基片的距离，尽可能减少蒸发物的分子与气体分子碰撞的机会， 这样才能保证薄膜纯净和牢固， 蒸发物也不至于氧化。由分子动力学可知气体分子的平均自由程为:25 C的空气情况下(3)式中k为玻尔兹曼常量，T为气体温度，b 为气体分子有效直径，p为气体压强.
19、此式 表明，气体分子的平均自由程与压强成反比，与温度成正比。在6.6 102一-(m)对于蒸发源到基片的距离为0.150.2米的镀膜装置，镀膜室的真空度须在10-210-4帕之间才能满足要求。蒸发镀膜时，薄膜材料被加热蒸发成为原子或分子，在一定的温度下，薄膜材料单位面积的质量蒸发速率由朗谬尔( Langmuir )导出的公式决定：J3M(4)G 4.37 104R、：一(kg m< g)式中M为蒸发材料的摩尔质量，Pv为蒸发材料的饱和蒸气压，T为蒸发材料温度。材料 的饱和蒸气压随温度的上升而迅速增大，温度变化10%饱和蒸气压就要变化约一个数量级。由此可见，蒸发源温度的微小变化可引起蒸发速
20、率的很大变化。因此，在蒸发镀膜过程中， 要想控制蒸发速率，必须精确控制蒸发源的温度。蒸发镀膜最常用的加热方法是电阻大电流加热，采用鸨、铝、铝、钳等高熔点化学性能稳定的金属，做成适当形状的加热源，其上装入待蒸发材料，让电流通过，对蒸发材料进行直接加热蒸发，或者把待蒸发材料放入氧化铝、氮化硼或石墨等塔期中进行间接加热蒸发。 例如蒸镀铝膜，铝的熔点为659 C,到1100c时开始迅速蒸发，常选用鸨丝作为加热源，鸨 的熔化温度为3380 C。在真空镀膜中，飞抵基片的气化原子或分子，除一部分被反射外，其于的被吸附在基片的表面上。被吸附的原子或分子在基片表面上进行扩散运动，一部分在运动中因相互碰撞而结聚成
21、团，另一部分经过一段时间的滞留后，被蒸发而离开基片表面。 聚团可能会与表面扩散原子或分子发生碰撞时捕获原子或分子而增大，也可能因单个原子或分子脱离而变小。当聚团增大到一定程度时，便会形成稳定的核，核再捕获到飞抵的原子或分子，或在基片表面进行扩散运动的原子或分子就会生长。在生长过程中核与核合成而形成网络结构，网络被填实即生成连续的薄膜。显然，基片的表面条件(例如清洁度和不完整性)、基片的温度以及薄膜的沉积速率都将影响薄膜的质量。5、干涉法测量膜厚干涉法测量膜厚的理论基础是光的干涉效应。对于 32000 nm的膜厚，一般可采用干 涉显微镜来测量。干涉显微镜可视为迈克尔逊干涉仪和显微镜的组合，其简化
22、光路如图五所示。由光源发出的一束光经聚光镜和分光镜后分成强度相同的B、C两束光，分别经反射镜和样品反射后汇合发生干涉。两条光路光程基本相等， 当它们间有一夹角时， 就可能产生明暗相间的干涉条纹（等厚干涉）。将薄膜制成台阶状， 则光束C中从薄膜反射和从基片表面 反射的光程不同，它们和光束B干涉时，由于光程差而造成同一级次的干涉条纹平移，如图5所示。由此可求出台阶高度（即薄膜厚度）为：,l '一d =（5）l 2式中Al为同一级次干涉条纹（要认准）的移动距离，l为明暗条纹间距，它们由测微目镜测出，入为单色光源的波长。由于单色光形成的是亮暗干涉条纹，难以确定条纹移动距离故测量时必须选用白光光
23、源，这样容易确定零级干涉条纹。其零级条纹两侧是彩色的，便可明确测定条纹移动距离，白光的平均波长取入二540nmi图五干涉显微镜光路图图六干涉条纹移动1）玻璃钟罩 2 ）蒸发衬套3）高压电极 4 ）蒸发电极5）蒸发基 6）真空室底板7）溅射靶 8）溅射基片台9）蒸发档板10 ）烘烤加热器11）档板转轴 12）档板转轴旋钮图七真空室【实验仪器】DH2010型多功能真空实验仪。仪器结构图：1、真空室（图七）2、真空系统（图八）1） 充气阀 24）扩散泵57）加热器升降架810）机械泵放气阀11）高真空蝶阀3）扩散泵加热器6）前级管路热偶规管9）机械泵图八真空系统）低真空阀）扩散泵冷却水进、出接口）前
24、级阀3、复合真空计面板（图九）多山储R空京相仪DH201。M口哀1曾H图九复合真空计面板 【实验内容】薄膜(thin film )是材料的一种形态，通常意义上的薄膜是指厚度在Nm及以下数量级上的物质层，其长度、宽度尺寸远远大于厚度尺寸。大多数情况下，薄膜是附着在另外的物质上的，薄膜附着物质叫做衬底( substrate )或者基片，特殊情况下，也有无附着衬底 的自支撑薄膜材料。 构成薄膜的材料叫做膜材，它可以是单质，也可以是化合物；可以是有机物，也可以是无机物； 可以是导体材料，也可以是半导体或者绝缘体材料。从物质结构上 说，对于固态薄膜，它可以是非晶态、多晶态或者晶态的。因此，根据标准的不同
25、，薄膜材 料的分类是非常多的。薄膜材料有着极为广泛的用途，它遍布国防、航空航天、重工、电子、日常生活的方方 面面，尤其在电子工业领域， 薄膜几乎到了一统天下的地步，半导体集成电路、电子元器件、激光器、磁带、磁头等等都是应用薄膜材料的。薄膜材料与薄膜制备技术已经逐步发展为一 门独立的应用技术学科。薄膜的广泛应用促进了薄膜技术的飞速发展，根据基本原理的差异，薄膜制备技术可以大致分为：气相生成法、液相生成法、氧化法、扩散与喷涂法、电镀方法等。本实验介绍的是最为常见的薄膜气相制备方法一一真空蒸发法。真空蒸发薄膜制备的基本工艺流程：本实验是真空蒸发法在玻璃衬底上制备金属Al薄膜，其基本工艺流程如图七所示
26、：I清洁真空室I 时底材料清洗|中 |蒸发物质准备|一入衬底|0I装入蒸发物质抽真空成品隹后处理U取件3蓑发0预熔化图七 真空蒸发金属Al薄膜工艺流实验前请仔细检查各开关的状态，应该处于关断状态。一、实验前准备：先仔细清洗真空镀膜室的玻璃钟罩、用吹风机将钟罩烘干。1、清洗衬底玻璃基板、鸨丝和待蒸发的高纯铝丝；2、清洗镀膜工作室；3、将洗净的基片和铝丝放置在指定位置。4、将缠绕有蒸发物质(铝丝)的蒸发加热源(鸨丝)固定到蒸发电极上，注意在固定 的时候一定要水平，否则蒸发物质熔化后会向一次流动，影响薄膜的均匀性，也影响薄膜的纯度。5、放置真空玻璃钟罩。6、检查循环水有没有接通，要求循环水管路接通并
27、通水。二、真空室抽真空在启动系统前先检查冷却水有没有接通，要求循环水管路接通并通水。 检查高真空蝶阀是否在关闭状态，要求关闭高真空蝶阀。1、开启总电源，面板上的电源指示灯点亮（如果没有接通冷却水，仪器会启动断水报 警，此时只要将冷却水接通即可消除报警），将控制面板上的工作选择开关到机械泵，启动机械泵，机械泵开始工作。同时打开机械泵充气阀、低抽阀，对真空室进行粗抽。2、开启复合真空计电源。此时热偶II单元显示的是管路压力，复合真空计单元显示的 是真空室内压力。3、观察热偶计示数变化，当复合真空计单元测量的真空室真空度达到5Pa时（此时复合计单元通过热偶规管测量真空室压力），将工作选择打到扩散泵，
28、此时关闭了低抽阀，打开前级阀（机械泵对扩散泵抽真空），当热偶II单元显示的压力到 3Pa时，将工作选择至扩 散泵工作，接通扩散泵加热电源（接通加热电源开关），接通电源后，通过 PID温控器加热扩散泵。4、加热10分钟左右后，等扩散泵正常工作后，将高真空蝶阀打开，通过扩散泵对真空 室抽气，当热偶测量真空室的压力到1Pa以下，真空计自动开启电高规管测量。5、结合扩散泵的工作原理观察油扩散泵的工作过程。6、当扩散泵正常工作约 50分钟后，在这段工作时间内， 可通过开启基片加热电源对真 空室内进行烘烤除气，一般烘烤温度控制在200 c达左右，同时可通过开启真空计面板上的除气按键，对电离规管进行除气，一
29、般除气时间为3min。7、随真空度的增高，关闭真空计 ，可进行蒸镀铝膜实验。三、蒸镀铝膜1、待真空室内的真空度达到10-3Pa时，可开始蒸镀铝膜。（蒸镀铝膜真空度一般在 2X10-2Pa5X 103Pa范围都可以进行）。2、将前面板上的电压选择开关至“蒸发”档，通过调节电压调节旋钮调节蒸发电压， 逐步调高蒸发电源的电流。 缓慢升高加热电流，使得加热电流保持在 20A左右持续3分钟左 右，此时观察电离规，会发现系统真空度要经历一个先下降再上升的过程。原因是吸附在蒸发物质和蒸发加热源物质上的气体分子和少量的有机物燃物被解吸附并被真空机组抽出真 空室。进一步升高加热电流到3040A,仔细观察加热源物
30、质，会发现在加热电流作用下其呈现暗红色，这是的温度大致有450Co继续缓慢升高加热电流，蒸发源物质和蒸发物质颜色逐渐呈现红色、明亮的红色，此时温度大致在600700C,当加热电流达到 50A左右，加热源物质和加热物质颜色呈现红白色，仔细观察蒸发源物质， 其形态发生变化，表面出现软化情况，随着时间的持续，原本固态的蒸发物质熔化并在蒸发加热物质上铺展开来。增大加热电流到75A并移开蒸发挡板开始蒸发并计时。达到要求时间后迅速降低电流到0,蒸发过程结束。3、一般情况下要求的真空度要满足的条件是：分子平均自由程是蒸发源物质与衬底间 距的3倍以上，否则会影响样品的纯度。4、蒸镀铝膜完毕后，将电压选择开关至
31、“断”档，切断蒸发电源。5、观察真空室压力的变化，记下真空室的压力。关闭高真空蝶阀。6、将工作选择打到“扩散泵”档，当真空室真空度低于1Pa时，关闭电离规管测量，按一下“自动”按键，关闭自动测量功能，再按一下“关电离”按键，则关闭了电离规管测 量，而转入热偶规管测量真空室压力。7、记录真空室的压力与时间的关系，开始每隔2秒记录一次，真空度变化慢时视情况延长测量时间间隔，直到真空度降低至10Pa数量级，停止记录，做系统漏率曲线。8、关机步骤：(1)此时扩散泵电源已关，工作选择处于“扩散泵”状态，高真空蝶阀处于关闭状态； 机械泵继续工作，冷却水继续接通，对扩散泵内的泵油进行冷却。(2)机械泵继续工
32、作，直到扩散泵油的温度低于50 C,同时管路真空度在 Pa数量级时，将工作选择打在“机械泵”。(3)切断水源，关闭真空计电源。(4)将工作选择打向“断”，接通充气电源开关，同时将面板上的流量计开启到最大流 量，往真空室内充入大气，打开钟罩，取出样品、蒸发衬套。(5)清洗真空室、蒸发衬套等附件。并用风机吹干净后将真空室安装好，将工作选择 开关至“机械泵”档，对真空室进行粗抽，打开真空计电源，当真空室压力在几Pa数量级后，将工作选择开关至“断”档，使真空室保持在真空状态。关闭真空计电源。(6)切断总电源开关，拔下总电源插头。9、用干涉显微镜测量薄膜的厚度，先用刻蚀法制作薄膜台阶，然后用干涉显微镜测
33、量 薄膜厚度。【注意事项】为了蒸镀得到质量较好的薄膜，应当注意以下几个问题：(1)注意基片表面保持良好的清洁度.被镀基片表面的清洁程度直接影响薄膜的牢固 性和均匀性.基片表面的任何微粒、尘埃、油污及杂质都会大大降低薄膜的附着力。为了使薄膜有较好的反射光的性能，基片表面应平整光滑。镀膜前基片必须经过严格的清洗和烘干。 基片放入镀膜室后，在蒸镀前有条件时应进行离子轰击，以去除表面上吸附的气体分子和污染物，增加基片表面的活性，提高基片与膜的结合力。(2)将材料中的杂质预先蒸发掉(“预熔”)。蒸发物质的纯度直接影响着薄膜的结构和光学性质，因此除了尽量提高蒸发物质的纯度外，还应设法把材料中蒸发温度低于蒸
34、发物质的其它杂质预先蒸发掉，而不要使它蒸发到基片表面上。在预熔时用活动挡板挡住蒸发源， 使蒸发材料中的杂质不能蒸发到基片表面。预熔时会有大量吸附在蒸发材料和电极上的气体放出，真空度会降低一些，故不能马上进行蒸发，应测量真空度并继续抽气，待真空度恢复到原来的状态后，方可移开挡板，加大蒸发电极的加热电流，进行蒸镀。注意：只要真空室充过气，即使前次已“预熔”过或蒸发过的材料也必须重新预熔。(3)注意使膜层厚度分布均匀.均匀性不好会造成膜的某些特征随表面位置的不同而 变化.让蒸发源与基片的距离适当远些，使基片在蒸镀过程中慢速转动，同时使工件尽量靠近转动轴线放置。(4)扩散泵连续工作时， 落下钟罩后必须
35、先对钟罩抽低真空，当达到67Pa后再开高阀，绝对不容许直接抽高真空，以避免扩散泵油氧化。(5)中途突然停电，应立即将工作先择开关至“断”切断高真空测量，关闭高真空蝶阀，来电后，待机械泵工作 23分钟后，再恢复正常工作。(6)镀膜工彳进行23次后，必须及时镀膜室内零件，避免蒸发物质大量进入真空系统而损害真空性能。采用酒精清洗，清洗干净后用热吹风机将各零部件吹干，装配时应注意保持清洁。(7)各真空元件及仪表的维修保养参阅其说明书。【思考题】1、机械泵的极限真空度是如何产生的？能否克服？2、油扩散泵的启动压强应为多少？为什么？3、用热偶计测高真空、用电离计测低真空行不行？如果不做成复合真空计，怎样避免 电离计被烧坏？4、关机时为何要将大气放入机械泵？5、进行真空镀膜为什么要求有一定的真空度？6、为了使膜层比较牢固，怎样对基片进行处理？