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1、,离子注入机简介,2, 离子注入机的种类,3,6200、NV10160、10180、10160SD简介 离子注入机按照真空系统分为三个部分 SOURCE BEAM LINE END STATION,4,各部分包括的控制器,5, 离子注入的原理 离子源产生的离子在吸极电压的作用下形成束流,以一定的速度进入分析器磁场后受到洛仑磁力发生偏转,选出我们所需的离子,通过加速高压的作用获得一定的能量,离子通过透镜的聚焦后,以一定的扫描方式打入硅片。,6, 离子源的工作原理 当离子源的灯丝通过足够大的直流电流时,灯丝受热后发射的热电子在ARC 电压、源磁场的共同作用下做螺旋状运动与工艺气体碰撞后,工艺气体发
2、生电离产生离子。,7, 质量分析器 洛仑磁力: F=qvB R=mv/qB 带电粒子进入磁场受到力的作用后发生偏转。 11B+、 31P+、 40Ar+、 75As+、 121Sb+ 350D:先分析后加速。 NV1080:先加速后分析。,8, Q-LENS 静电四极透镜 静电四极透镜:对离子进行聚焦作用。 加速后的离子在Q-LENS静电四极透镜的作用下被聚焦成较小的束斑。,9, FARADAY SYSTEM FARADAY的作用是测量束流,通过DOSE控制器精确地计量注入到硅片上的剂量。 BEAM SETUP:束流打在FLAG FARADAY IMPLANT:束流打在END STATION(350D) 束流打在DISK (NV1080),10,谢谢! 2006.8.2,